集成电路布图设计受保护的条件
环猎证据调查机构:受保护的布图设计应当具有独创性,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。
受保护的由常规设计组成的布图设计,其组合作为整体应当符合前述条件。依据指引:
1<集成电路布图设计保护条例>(2001年4月2日 国务院令发布)
第四条受保护的布图设计应当具有独创性,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。
受保护的由常规设计组成的布图设计,其组合作为整体应当符合前款规定的条件。
|